醫(yī)用材料表面形貌分析用飛納掃描電鏡
簡(jiǎn)要描述:Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡,可用于醫(yī)用材料表面形貌分析,幫助觀察材料表面結(jié)構(gòu)、孔隙和缺陷。
產(chǎn)品型號(hào): Phenom XL G3
所屬分類:臺(tái)式掃描電鏡
更新時(shí)間:2026-07-14
廠商性質(zhì):其他
詳情介紹
| 品牌 | Phenom 飛納電鏡 | 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品新舊 | 全新 | 分辨率 | 優(yōu)于 8 nm |
| 加速電壓 | 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV |
Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡,可用于醫(yī)用材料表面形貌分析,幫助觀察材料表面結(jié)構(gòu)、孔隙和缺陷。
Phenom XL G3 平均成像時(shí)間約 40 秒,可對(duì)最大 100 x 100 mm 的樣品進(jìn)行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測(cè)場(chǎng)景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲,電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm,適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測(cè)試等應(yīng)用。
該產(chǎn)品具備大倉(cāng)室樣品臺(tái)、低/中/高三種真空模式、背散射探測(cè)器,并可根據(jù)需求選配二次電子探測(cè)器和能譜探測(cè)器。具體配置和價(jià)格根據(jù)型號(hào)、功能及應(yīng)用需求確定,可通過平臺(tái)詢價(jià)/留言入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。
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